Litografía por haz de electrones de alta resolución
Equipo de litografía por haz de electrones que permite realizar motivos por debajo de los 50 nm. El mínimo diametro del haz llega a ser 2 nm. El sistema ademas se ha actualizado ultimamente con un stage interferométrico de alta precisión.
Descripción de los servicios que se ofrecen
-Fabricación de todo tipo de dispositivos nanométricos mediante haz de electrones.
-Formación en el uso de la litografia por haz de electrones
Necesidades demandadas y aplicaciones
Cada vez es más necesario la fabricación de dispositivos de dimensiones nanométricas. Los dispositivos de esos tamaños tienen propiedades diferentes a los dispositivos micro- milimétricos. Su elevada aspect ratio permite que sean dispositivos más sensible y de menor consumo energético
Sector o área de aplicación
Nanotecnología, electrónica, optoelectrónica, fotónica, energía, spintrónica
Competencias diferenciales
Es el equipo con mayor resolución en la fabricación de dispositivos nanométricos del pais. Esta actualizado con las mejores prestaciones y es el banco de pruebas y de desmostradores de la compañia japonesa en Europa.
Referencias previas de prestación
Proyectos nacionales, proyectos europeas, proyectos internacionales.
Dónde se ubica
ISOM. E.T.S.I.Telecomunicación
