Ficha
Sistema de pulverización de alto vacío (Marea)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A301L / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Sistema de pulverización con cámara de transferencia para depósitos de capas piezoeléctricas a lata temperatura y alto vacíoaalto
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Marea es un equipo de pulverización de alto vacío diseñado para poder trabajar con cátodos de 4". Permite realizar depósitos de películas delgadas en condiciones de excelente vacío y con temperatura de sustratos controlada hasta 500ºC.
Material disponible en la actualidad: Al, ScAl.
Generación de plasma mediante: N2, Ar.
Vacío máximo alcanzable mediante bomba criogénica: 1.2*10-8 mTorr.
Línea de venteo: N2.
Fuente de alimentación ENI RPG-50, fuente DC pulsada hasta 5kW.
Control de radiofrecuencia por acoplos inductivos y capacitivos autoregulables para conseguir mejor estabilidad en el plasma y menor red de acoplo.
Cámara de transferencia bombeada por bomba turbomolecular para mantener niveles de ultra alto vacío en la cámara principal.
Calefactor y control de temperatura incorporado.
Actualmente el equipo está dedicado al depósito de películas delgadas piezoeléctricas de nitruro de aluminio (AlN) y nitruro de aluminio dopado con escandio (AlScN) de alta calidad y excelente cristalinidad para la excitación de dispositivos FBAR, SAW, MEMS.
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