Ficha
Mask aligner, alineador de máscaras, (SUSS MICROTEC - MJB4)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A301L / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Alineador de máscaras MJB4
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Equipo diseñado para la producción de MEMS/NEMS, equipo de alta precisión para el alineamiento de los patrones que serán transmitidos a las obleas en el proceso de fotolitografía por exposición de luz ultravioleta.
Diseño y alineamiento de máscaras para procesos de fotolitografía por exposición de la luz UV.
Tipo de alineaminetos: Solo alineación del lado superior.
Fuente de luz: UV 400, 350 - 450nm.
Oculares: 10x.
Objetivos: 5x, 10x, 20x.
Resolución: 0,8 um.
Tamaño del sustrato: Piezas de 2".
Tamaño de la máscara: 3", 4" y 5".
Tipo de contacto con el sustrato: Contacto suave, contacto duro y vacío.
Líneas de presión y alineamiento: N2, Aire comprimido.
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