Ficha
Mask aligner, alineador de máscaras, (SUSS MICROTEC - MJB3).
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, B08 / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Alineador de máscaras MJB3
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Equipo diseñado para la producción de MEMS/NEMS, equipo de alta precisión para el alineamiento de los patrones que serán transmitidos a las obleas en el proceso de fotolitografía por exposición de luz ultravioleta.
Diseño y alineamiento de máscaras para procesos de fotolitografía por exposición de la luz UV.
Tipo de alineaminetos: El alineador A está configurado para la alineación del lado superior.
El alineador B está configurado para alineación superior e inferior.
Longitud de onda de exposición: UV 400, 350 - 450 nm
Lámpara UV: lámpara de arco de 350 W Hg.
Oculares: 10x, 15x.
Objetivos: 3.2x, 5x, 10x, 20x, 25x.
Resolución de exposición: 0,8 micras.
Modos de exposición: Contato suave, Contacto duro y Vacío.
Tamaño del sustrato: Piezas de 3".
Dimensiones de la máscara: 3" y 4".
Líneas de presión: N2, Aire comprimido.
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