Ficha
High vacuum sputtering, (Veeco 2, MRC)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A301L / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Equipo de depósito físico de películas delgadas por pulverización catódica
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
MRC es un equipo de pulverización catódica dotado de de cátodos de 4" y 3" todos ellos intercambiables por otros materiales según las necesidades de las aplicaciones.
Materiales disponibles en la actualidad: Au, Ir, Cr, Si, Al, PTFE.
Líneas de gases: N2, O2, Ar.
Vacío máximo alcanzable mediante bomba turbomolecular: 2*10-6 mTorr.
Línea de venteo: O2
Fuente de alimentación Pinnacle DC+, fuente DC pulsada hasta 5kW.
Calefactor y control de temperatura incorporado.
Depósito de materiales en película delgada para dispositivos electrónicos y fotónicos (transistores, diodos, células solares), resonadores acústicos activados con películas piezoeléctricas (FBAR, SAW, SAW), dispositivos microelectromecánicos (MEMS)
Tecnologías de micro y nano fabricación basadas en materiales semiconductores
Tecnologías de sensores químicos y biológicos
Tecnologías de componentes para comunicaciones de RF (5G)
