Ficha
High vacuum physical vapor deposition (PVD) system, (Veeco 1)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A409L.
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Depósito físico por evaporación (PVD)
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Este equipo de depósito permite crecer películas delgadas mediante la técnica de evaporación por efecto Joule. Sistema dotado de control de espesor mediante microbalanza de cuarzo controlada por LabVIEW (tipo de material, tooling factor y densidad del mismo). No dispone de calefactor integrado.
Materiales disponibles en la actualidad: Al, Co, Si, Ir, Au, W, PTFE, Fe.
Línea de venteo: N2
Vacío máximo alcanzable mediante bomba de difusión: 5*10-6 mTorr.
Depósito de materiales en película delgada para dispositivos microelectrónicos y fotónicos basados en semiconductores (diodos, transistores, células solares), resonadores acústicos con actuación piezoeléctrica (FBAR, BAW, SAW), dispositivos microelectromecánicos (MEMS y NEMS)
Tecnologías de semiconductores (micro y nanotecnología)
Tecnologías de sensores químicos y biológicos
Tecnologías de componentes para comunicaciones de RF (5G)
