Ficha
Chemical vapor deposition, (CVD)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A301L / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Deposito por vapores químicos, (CVD)
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
CVD es un tipo de sistema utilizado en el crecimiento de materiales en película delgada mediante el uso de gases reactivos en alta tempetura y de alto vacío diseñado para crecer películas de materiales sólidas y de alta calidad. Una aplicación muy ultilizada en este tipo de sistemas de vacío es en el crecimiento de nanopartículas, en cuestión nanotubos de carbono.
Crecimiento de nanotubos de carbono para diseño, fabricación y funcionalización de dispositivos BAR, SAW, MEMS para diferentes aplicaciones o sensado de partículas,
Gases utilizados: C2H2, NH3, SiH4.
Vacío máximo alcanzable mediante bomba turbomolecular: 2*10-6 mTorr.
Línea de venteo: N2
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